序號(hào)

原參數(shù)要求

更正后參數(shù)要求

1

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

★2.4 譜儀道數(shù)：≥5道波譜儀。

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

★2.4 譜儀道數(shù)：≥4道波譜儀。

2

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

2.9 譜儀類型及晶體組成

2.9.1 常規(guī)元素大羅蘭圓譜儀1道，適合常規(guī)元素的高分辨率分析。

2.9.2 常規(guī)元素小羅蘭圓譜儀1道，適合常規(guī)元素的高靈敏度分析。

2.9.3 適合超輕元素B，C分析的譜儀1道。

2.9.3常規(guī)元素的大晶體譜儀1道，適合常規(guī)元素的高信噪比分析。

2.9.4 適合超輕元素N，O，F分析的譜儀1道。

2.9.5適合超輕元素N，O，F及Na,Mg,Al,Si分析的高分辨大羅蘭圓譜儀1道。

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

2.9 譜儀類型及晶體組成

2.9.1 常規(guī)元素大羅蘭圓譜儀1道，適合常規(guī)元素的高分辨率分析。

2.9.2 常規(guī)元素小羅蘭圓譜儀1道，適合常規(guī)元素的高靈敏度分析。

2.9.3 適合超輕元素B，C和Na, Mg,Al分析的譜儀1道。

2.9.4適合超輕元素N,O，F及Na,Mg,Al,Si分析的高分辨大羅蘭圓譜儀1道。

3

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

5.1 真空度：電子槍室真空度≤5.0×10-8 Pa 數(shù)量級(jí)；樣品室極限真空度≤8.010-4 Pa。

5.2 配置真空泵：機(jī)械泵+離子泵+分子泵，真空控制系統(tǒng)為全自動(dòng)。

5.6真空度檢測(cè)：高真空規(guī)及低真空規(guī)。

一、技術(shù)要求

（一）性能參數(shù)要求

5.1 真空度

5.1.1電子槍室真空度≤5.0×10-8 Pa 數(shù)量級(jí)；

5.1.2樣品室極限真空度≤8.0×10-4 Pa。

5.2 配置真空泵

5.2.1 機(jī)械泵+離子泵+分子泵；

5.2.2 真空控制系統(tǒng)為全自動(dòng)。

5.6 真空度檢測(cè)

5.6.1 高真空規(guī)；

5.6.2 低真空規(guī)。

4

一、技術(shù)要求

（二）配置清單

（7）第5道譜儀，一套；

一、技術(shù)要求

（二）配置清單

刪除第（7）項(xiàng)，其他內(nèi)容不變，后序序號(hào)順延修改

5

二、商務(wù)要求

3. 售后服務(wù)

3.2.6 質(zhì)保期內(nèi)設(shè)備每年需做不少于2次設(shè)備回訪，超出質(zhì)保期限，每年需至少免費(fèi)上門回訪1次；如遇產(chǎn)品故障，不收取人工費(fèi)，只收取部件費(fèi)用。

二、商務(wù)要求

3. 售后服務(wù)

3.2.6 質(zhì)保期內(nèi)設(shè)備每年需做不少于2次設(shè)備回訪，超出質(zhì)保期限，每年需至少免費(fèi)上門回訪1次。